一年多前的时候，阿斯麦已经让老东家飞利浦给扫地出门了。作为一个一直在赔钱的研发部门，阿斯麦一直可算是委屈受尽。飞利浦都没给他们准备办公室和实验室，直接在大楼外面弄了几个简易小板房就给他们打发了。

这出来了一年多，多少拿到一些赞助和投资，但无奈光刻机研发就是一个无底的深坑，别人投多少钱进去暂时都是见不到任何回报的。

80年代中期，光刻机的老大是美国GAC和日本的尼康。人家每年能产几百台光刻机，而阿斯麦呢？是“0”台，你没看错，就是一台都造不出来。

可怜的阿斯麦现在并没有后世那种舍我其谁的气势，而是一个十足的姥姥不疼舅舅不爱的小角色。

这时候，胡涵伸出的那个绑满美元的橄榄枝无疑就成了小阿斯麦眼中那棵比水桶还粗的救命稻草。

其实，阿斯麦是一个十足的集成公司，他只研发光刻技术和组装光刻机，而不生产其中的任何一个零件。

之前限制阿斯麦的还有一个重要的原因，就是美国大佬GAC已经把蔡司的光刻镜头给订断货了，小可怜们混得都没有镜头用了。

结果老天实在看不下去了，直接一个电炮把GAC给干躺下了。这才有了阿斯麦转圜的余地。（胡涵也让人在GAC的尸体上挖了不少好处）

以前阿斯麦拿的投资都是几百万几百万的小钱，这次胡涵直接大笔一挥，两千万美元。这犹如久旱逢甘霖，十年和尚下了山，干柴直接碰到了烈火。

不过，阿斯麦也不傻，天下没有白吃的午餐，任谁碰到这种情况都会不放心地问一句：“那代价是什么呢？”

代价就是需要你小阿斯麦和我大寰球科技共享技术。

这简直就是晴天霹雳，没钱只不过是能要了他的命，但共享技术这事儿简直就是要挖他家的祖坟。不行不行，万万不行！

作为一家以科研为主的公司，独家技术才是最重要的。如果独家技术都没了，那以后就很难再出头了。所以，小阿斯麦看着橄榄枝上绑满的美金，咽下了悲伤的口水，还是不为所动。

但胡涵却说，既然是共享技术。那就由我们先提供一项由寰球科技发明的新式技术，这项技术可以使光刻机技术实现极大的跨越，从微米级一下进化到600纳米的量级。

这下阿斯麦有点儿绷不住了。600纳米是什么概念？当时即使在全世界范围内，还没有一家实验室可以制成800纳米的芯片，甚至大部分公司连边都摸不到。大家现在还在向800纳米芯片努力。

历史上真正的600纳米芯片是在1990年出现的。所以现在还处在不可想象的级别。

其实，胡涵所说的这项厉害专利是后世台积电工程师提出的，用水代替空气来作为光刻机投影物镜和晶圆之间的媒介。这样可以通过水的折射率优化之后，就可以增加投影物镜的直径，从而获得更细的激光来进行光刻。

这就是后世的浸润式光刻机原理。再过十几年，正是阿斯麦慧眼识珠，选择了这项技术，才使得他能在短时间内称霸光刻机领域。

胡涵这一招属于管后世的佛借花，献给现世的佛自己。主打一个自产自销，连别的人都省了。

胡涵也不是没想过，自己这边研究出这项技术，然后在国内自己搞光刻机，岂不美哉？但现实往往是最会打脸的。这浸润式光刻机的原理胡涵可以依靠寰球科技与国内各合作研究组的力量搞出来，并注册专利。

但也仅仅就只能拥有着一个专利而已。国内光刻机技术实在太落后了，除了这项技术之外可以说几乎没有其他任何优势。别的部件和技术领域都落后别人十多年，你自己怎么搞？

所以，只能借助小阿斯麦在其他技术领域技术，才能锦上添花。谁让咱们连个锦都没有呢？没有基础，给你个高端武功秘籍也是白费。

金钱加独家技术，这才让阿斯麦改了口，不过要先验证一下这项技术才行。

胡涵把浸润式光刻技术早就在各国都注册了专利，所以不怕拿给阿斯麦看。其实这个专利是专门为阿斯麦量身打造的。

像当初GAC和尼康这种大厂根本就瞧不上这个浸润式光刻技术。因为在1987年的时候，干式光刻机还没有到达极限。而且其他大公司都在干式光刻机的研发方面投入了大量的人力物力。

你让他们丢掉这些跟你另辟蹊径，几乎是不可能的。所以，只有找阿斯麦这种小厂他们才愿意合作，好依托新技术打个翻身仗，这就叫船小好调头。

胡涵虽然不懂太深，但光刻机这种前世的热门大新闻还是了解一些的。有时候科学技术就是一张窗户纸，只要捅破了，难度并不不大。又不是非得自己亲自去搞，说个大概，这天下有得是聪明绝顶的人。

阿斯麦看完这个专利后彻底服气了（也可能是连工资都发不出来了）。他们马上和环球科技签订了一揽子协议，之后就马上投入了浸润式光刻机的研制工作。

同时，寰球科技也从阿斯麦得到了现在世界一流的光刻机开发技术。寰球掏钱，国内各研究所出力。估计在年底前就能攒出一台接近世界主流水平的干式光刻机。

等阿斯麦那边把浸润式光刻机研制出来，国产光刻机技术还能再上一层楼。提前把落后的帽子甩进太平洋。

当然，这一切不能都免费做贡献。首先，拿到技术许可的是寰球科技，而不是各大研究所。其次，所有科研活动都是在新建立的寰球半导体这个公司名下运作的。

说白了就是没有寰球科技，谁也不能使用这些外来技术，这些都是绑定的。

其实，浸润式光刻技术的发力点并不在600纳米这个层次，而是几乎可以把光刻技术代入纳米级的时代（纳米级是指100纳米以下的级别）。那才是胡涵大显身手的时代。